Focused Ion Beam

Ein Focused Ion Beam (Abk.: FIB; englisch für „fokussierter Ionenstrahl“, deutsch auch Ionenfeinstrahlanlage) ist ein Mittel zur Oberflächenanalyse und -bearbeitung. Steht der Materialabtrag im Vordergrund, heißt das Verfahren auch Ionendünnung. Wenn die Abtastung der Oberfläche des zu untersuchenden Objekts durch den Ionenstrahl primär als bildgebendes Verfahren eingesetzt wird, dann spricht man auch von einem Focused-Ion-Beam-Mikroskop.

↑ I.P. Jain, Garima Agarwal: Ion beam induced surface and interface engineering. In: Surface Science Reports. Band 66, Nr. 3–4, März 2011, S. 77–172, doi:10.1016/j.surfrep.2010.11.001.
↑ Ping Li, Siyu Chen, Houfu Dai, Zhengmei Yang, Zhiquan Chen: Recent advances in focused ion beam nanofabrication for nanostructures and devices: fundamentals and applications. In: Nanoscale. Band 13, Nr. 3, 2021, S. 1529–1565, doi:10.1039/D0NR07539F.

[1] I.P. Jain, Garima Agarwal: Ion beam induced surface and interface engineering. In: Surface Science Reports. Band 66, Nr. 3–4, März 2011, S. 77–172, doi:10.1016/j.surfrep.2010.11.001.

[2] Ping Li, Siyu Chen, Houfu Dai, Zhengmei Yang, Zhiquan Chen: Recent advances in focused ion beam nanofabrication for nanostructures and devices: fundamentals and applications. In: Nanoscale. Band 13, Nr. 3, 2021, S. 1529–1565, doi:10.1039/D0NR07539F.