High-k+Metal-Gate-Technik

Die High-k+Metal-Gate-Technik (HKMG-Technik) bezeichnet in der Halbleitertechnik einen speziellen Aufbau von Metall-Isolator-Halbleiter-Feldeffekttransistoren (MISFETs) moderner integrierter Schaltkreise (IC). Die Technik ist charakterisiert durch den Einsatz von Materialien mit einer höheren relativen Permittivität als Siliciumdioxid, sogenannte High-k-Materialien, als Isolationsschicht und einer metallischen Gate-Elektrode (metal gate).

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